国内7 nm设备传来消息，中国芯片加速发展，台积电始料未及

我们都知道，在半导体芯片领域，除了芯片之外，还有一些设备与芯片相比，有一丝不苟的重要性，如果没有这些设备，芯片制造就不可能完成。

而在此之前，我国之所以无法提高芯片的生产能力和技术水平，那是因为这些设备被国外企业垄断，制裁了我国半导体芯片行业的发展。

要改变这种现状，我国、芯片半导体企业、科研机构和国内高校三方携手合作，立志研究和开发所有生产芯片的相关设备，从而使我国的芯片产业摆脱国外的制约，打破国外企业的垄断。

就是在这样的大环境下，被国外垄断的设备技术接踵而至，接踵而至的是破冰的好消息。在光刻机领域的突破，更令国内芯片半导体企业兴奋不已，要知道，在光刻机领域，一直被荷兰的阿斯麦公司垄断，实质上被美国控制。旗下的 EUV光刻机是当今世界上最先进的光刻机。

现在，上海微电子在国内实现了光刻机的国产化，虽然只有28 nm光刻机，与荷兰的7 nmEUV光刻机还有一些差距，但也是非常好的开始，以后自然会实现高端光刻机的国产化。

另外，其他一些设备也有了重大突破，比如，中国电科28 nm全谱系离子注入机，南大光电的 KRF高端光刻胶，这些都与上海微电子的光刻机一般，是28 nm的精度。但目前仍是28 nm及以上芯片的主流市场，因此说这些中低端设备的突破具有很大的意义和作用。

继这些中低档设备频繁传出喜讯后，高端设备也是不甘示弱，同样传来喜讯。日前，公司官方宣布，将在明年正式投入使用，14 nm制程的湿法设备将正式投入生产，并决定向华为和中芯国际供应湿法设备，这无疑会给华为和中芯国际带来巨大的利益。

值得注意的是，中微半导体也实现了高端设备的突破，其所开发的5 nm刻蚀机已实现国产化，而且整体性能不如国外产品。

中国芯片向前发展！

装备领域不断出现破冰现象，给国人带来了极大的鼓舞，让国人相信我们的芯片半导体产业一定会达到甚至超越国际先进水平。

为集中优势资源，优化资源利用，我国已在上海成立了投资总额为5000亿元的东方芯港，从材料、技术、设备等多个细分领域入手，推动中国芯快速发展。

据介绍，上海已开始加大对3 nm及其他先进半导体领域的研究投资，给予相关先进芯片设备制造和先进芯片研发企业更多的政策支持。吸引了华为、中芯国际、上海微电子、中微半导体等国内一流科技企业入驻。

相信，在国家领导下，得到更多政策扶持的国内芯片半导体企业，会更加注重先进芯片的研发和先进设备的研制。

台积电始料未及！

今天，中国的中低端产能已达到空前的水平，所以不必担心在此时加大投入，进军高端芯片领域而忽略中低端芯片领域。年产十亿片、单月产能399亿片，满足目前国内芯片需求已是绰绰有余。

在这个时候，中国已经完全不用担心中低端芯片的产能不足，因此自然会慢慢向高端领域转移，以求缩短与国际先进水平的差距。

看着中国在芯片研发方面不遗余力，台积电也想出了彻底的恐慌，台积电在几年后就完全惊慌失措，中国芯片实现了自给自足，不管是低、中、高三种级别的芯片，还是各种先进的研发设备，都是完全的恐慌。

作为世界上最先进的芯片代工企业，台积电几乎占据了全球近一半的市场份额，除美国的订单外，基本上都来自中国。如果中国真的实现了完全自给自足，那么台积电自然会损失很大。

中国在经历了制裁之后，坚定不移地走这条路，没有人能阻挡，今天的中国芯已经在中低端市场站稳了脚跟，自然要全力占据高端领域。在中国晶片领域强势崛起，台积电始料未及，更是势不可挡。

最后总结

今天中国的芯片产业能取得如此惊人的进步，国外的垄断制裁就是导火索，取得这些成就还得归功于国家的政策支持以及企业、科研机构、高校的共同努力。我们相信，在不久的将来，中国必将在高端芯片领域实现破冰，实现芯片自给。